负折射率超材料是一种人造的光学结构,其在一定频率范围内的电磁波具有负的折射率。这种材料并不存在于自然界中,而是通过人工精细加工结构来实现的。负折射率超材料的制造方法包括微纳米尺度上的光刻和蚀刻工艺,类似于半导体制造工艺。例如,美国加州大学圣迭戈分校的史密斯教授等人在2001年制造出世界上第一个负折射率的超材料样品。
负折射率超材料的应用领域非常广泛,包括但不限于:
此外,负折射率超材料还可用于眼镜制造等实际应用中,其中材料对光的入射角度和偏振的感应“钝化”是至关重要的。这种新型的奇异材料有望为“隐身斗篷”的研究带来进一步的突破。
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