参考资料

在光刻工艺中，光阻（光刻胶）需要具备以下特性以保证后续制造步骤中的稳定性：

1. 感光性：光阻需要在特定波长的光照下发生化学变化，这是光刻工艺的基础。
2. 良好的对比度：光阻在显影过程中应能清晰区分曝光和未曝光区域，以形成精确的图形。
3. 适当的敏感度：光阻对光的敏感度应适中，以确保在曝光过程中能准确转移掩模图案。
4. 良好的粘附性：光阻需要牢固地粘附在衬底上，以防止在显影或后续工艺中剥离。
5. 化学稳定性：光阻在显影后应具有足够的化学稳定性，以抵抗后续工艺中的化学侵蚀。
6. 热稳定性：在高温工艺步骤中，如刻蚀和退火，光阻应保持稳定，不发生变形或分解。
7. 良好的机械性能：光阻应具有一定的机械强度，以抵抗刻蚀过程中的物理损伤。
8. 低溶解度：在未曝光区域，光阻应具有低溶解度，以保证在显影过程中不会被过度溶解。

这些特性共同确保光刻胶在光刻工艺中能够有效地转移掩模图案，并在后续的制造步骤中保持图形的完整性和精确性。通过搜索结果，我们可以看到光刻胶的这些特性在多个来源中被提及，证实了它们在光刻工艺中的重要性。例如，电子工程专辑和维基百科都详细描述了光刻胶的这些关键特性。